-
自動測量光學膜厚儀通常具有以下自動化特性
2025-11-21
99
自動測量光學膜厚儀是一種用于非接觸、非破壞性地測量薄膜材料厚度的儀器。它通常應用于電子、光學、半導體、薄膜涂層、太陽能電池、光學鏡片等領域，特別是在薄膜生產和研發過程中，用于監控和控制膜層的厚度。原理光學膜厚儀的工作原理基于光學干涉效應。它通過測量薄膜表面和基底之間反射回來的光波的干涉圖樣來確定膜層厚度。具體來說，儀器通過發射一定波長的光（通常為激光或白光）到薄膜表面，光在薄膜表面與基底之間反射，產生干涉圖樣。根據干涉圖樣的變化，儀器計算出膜層的厚度。常見的光學膜厚儀包括以下... -
四探針電阻率測量儀是一種常用于測量材料電阻率的儀器
2025-11-19
185
四探針電阻率測量儀是一種常用于測量材料電阻率的儀器，特別適用于半導體、金屬、薄膜等材料的電阻特性分析。它通過四個探針同時接觸到樣品表面，利用其測量電流和電壓來計算電阻率，具有高精度和無損測量的優點。四探針電阻率測量原理四探針法基于歐姆定律，具體原理如下：1.探針排列：四個探針被均勻排列在樣品表面，通常成直線狀。兩個外側的探針用于施加電流，內側兩個探針用于測量電壓。2.電流輸入與電壓測量：電流從外側兩個探針流入樣品，流過樣品后，內側兩個探針測量由于電流流過樣品時產生的電壓降。3...
-
KLA納米壓痕儀實驗技巧
2025-11-18
246
KLA納米壓痕儀作為表征材料微觀力學性能(如硬度、彈性模量、蠕變、斷裂韌性等)的核心設備，其實驗結果的準確性高度依賴樣品制備、參數設置、操作規范及數據解讀的科學性。結合KLA儀器的硬件特性(如Berkovich壓頭、高精度位移傳感器)與實驗場景，以下為提升實驗質量的關鍵技巧。一、樣品制備核心技巧：奠定實驗基礎納米壓痕實驗對樣品表面質量、平整度及裝夾穩定性要求極高，樣品預處理不當易導致壓痕偏移、數據離散性大等問題。表面粗糙度控制：根據測試精度需求控制表面粗糙度，常規力學性能測試...
-
光學表面輪廓儀是一種測量物體表面形狀的工具
2025-11-17
211
光學表面輪廓儀是一種測量物體表面形狀的工具。它通過掃描物體表面，并記錄接收到的反射光信號來生成一個三維模型。原理基于三角測量法。當激光束打在物體表面上時，它會被反射回來并通過鏡頭進入相機。根據反射光線的角度和入射點與相機之間的距離，可以計算出物體表面的坐標。通過不斷移動激光束和相機，可以得到整個物體表面的三維坐標數據，從而生成一個完整的三維模型。光學表面輪廓儀具有許多優點。首先，它可以非常精確地測量物體表面的形狀，可以達到亞毫米級別的精度。其次，它可以快速地測量大型物體的表面...
-
KLA 探針式臺階儀工作原理
2025-10-22
288
KLA探針式臺階儀基于"探針接觸掃描+傳感器反饋"技術，通過探針與樣品表面接觸并掃描，結合高精度傳感器實時反饋位移變化，實現納米級至微米級臺階高度、表面形貌及應力的二維/三維測量。以下是其工作原理的詳細解析：核心工作原理：探針接觸與掃描探針設計：采用金剛石材質探針，針尖半徑可細至0.7μm或更小，確保高橫向分辨率。探針以極輕的力(0.03~50mg)接觸樣品表面，避免損傷軟質或脆性材料(如光刻膠、硅晶圓)。掃描方式：通過樣品臺或探針在X-Y平面勻速移動，探針沿表面劃過時，因表...
-
自動測量光學膜厚儀的主要特點有以下九個
2025-10-20
143
自動測量光學膜厚儀的薄膜光譜反射系統，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及n&k，采用r-θ極坐標移動平臺，可以在幾秒鐘的時間內快速的定位所需測試的點并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸，盒對盒系統可以很容易的自動轉換，匹配當前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒。自動測量光學膜厚儀的主要特點：1、基片折射率和消光系數測量；2、薄膜厚度測量，平均值和標準偏差分析；3、薄膜折射率和消光系數測量；4、...
